设备类型:cassette type
设备工艺:根据客户需求定制
适用wafer尺寸: 6寸,8寸
干燥方式: LPD干燥
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EKC清洗机

设备用途:用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,过程为全自动。
设备类型:cassette type
设备工艺:根据客户需求定制
适用wafer尺寸: 6寸,8寸
干燥方式: LPD干燥
支持secs协议,支持eap协议

所属分类:

关键词:半导体湿法 | 新设备湿法定制 | 湿法解决方案

  • 产品描述

    设备用途:用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,过程为全自动。

    设备类型:cassette type

    设备工艺:根据客户需求定制

    适用wafer尺寸: 6寸,8寸

    干燥方式: LPD干燥

    支持secs协议,支持eap协议

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