- 产品描述
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设备用途:用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,过程为全自动。
设备类型:cassette type
设备工艺:根据客户需求定制
适用wafer尺寸: 6寸,8寸
干燥方式: LPD干燥
支持secs协议,支持eap协议
在线留言
设备类型:cassette type
设备工艺:根据客户需求定制
适用wafer尺寸: 6寸,8寸
干燥方式: LPD干燥
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设备用途:用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,过程为全自动。
设备类型:cassette type
设备工艺:根据客户需求定制
适用wafer尺寸: 6寸,8寸
干燥方式: LPD干燥
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